產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
BTX 電融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動物細(xì)胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個融合過程可在顯微鏡下觀察。BTX 電融合電極技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-500V直流電,脈沖時間1μs-99ms,脈沖數(shù)1-99
詳情介紹:
電融合電極
|
電極名稱
|
產(chǎn)品應(yīng)用
|
|
Microslides
顯微載波片電極
|
核移植,胚胎操作,雜交瘤生成,動物細(xì)胞/植物原生質(zhì)體融合,卵母細(xì)胞的轉(zhuǎn)染
|
|
Meander fusion chamber
曲流融合室
|
動物細(xì)胞/
植物原生質(zhì)體融合
|
|
Flat electrode chamber
扁平電極
|
雜交瘤生成,動物細(xì)胞/植物原生質(zhì)體融合,動物細(xì)胞的轉(zhuǎn)染
|
1、Microslides
BTX 電融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動物細(xì)胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個融合過程可在顯微鏡下觀察。
BTX 電融合電極技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-500V直流電,脈沖時間1μs-99ms,脈沖數(shù)1-99
兼容性:ECM830,ECM2001
BTX 電融合電極由載玻片和不銹鋼電極組成,主要用于動物細(xì)胞和原生質(zhì)體的融合、胚胎操作,整個融合過程可在顯微鏡下觀察。
BTX 電融合電極技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-500V直流電,脈沖時間1μs-99ms,脈沖數(shù)1-99
兼容性:ECM830,ECM2001
貨號
|
45-0103
|
45-0104
|
45-0105
|
45-0106
|
電極間距
|
0.5mm
|
1.0mm
|
3.2mm
|
10mm
|
電場類型
|
不均勻
|
不均勻
|
均勻
|
均勻
|
容積(μl)
|
20
|
40
|
700
|
2200
|
2、Meander Fusion Chamber
曲流融合室 特別為細(xì)胞融合設(shè)計的結(jié)構(gòu),鍍銀的導(dǎo)電性金屬合金以手指狀突起陣列融化在玻璃纖維載玻片上,提供不均勻電場,電極間距為0.2mm,構(gòu)成高精度的工作區(qū)域,建議容量5-20μl。細(xì)胞融合過程可在顯微鏡下觀察,電極可經(jīng)溫和試劑的清洗重復(fù)使用。
技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電,脈沖時間1 μsec - 99 msec,脈沖數(shù)1-99
兼容性:ECM2001
曲流融合室 特別為細(xì)胞融合設(shè)計的結(jié)構(gòu),鍍銀的導(dǎo)電性金屬合金以手指狀突起陣列融化在玻璃纖維載玻片上,提供不均勻電場,電極間距為0.2mm,構(gòu)成高精度的工作區(qū)域,建議容量5-20μl。細(xì)胞融合過程可在顯微鏡下觀察,電極可經(jīng)溫和試劑的清洗重復(fù)使用。
技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電,脈沖時間1 μsec - 99 msec,脈沖數(shù)1-99
兼容性:ECM2001
3、Flat Electrode Chamber
扁平電極 由兩塊平行帶凹槽的長方形不銹鋼壓制于聚砜樹脂中構(gòu)成,既可用于細(xì)胞的電穿孔又可用于細(xì)胞電融合:當(dāng)凹槽電極的兩凹槽相對時,可產(chǎn)生不均勻電場用于細(xì)胞電融合;當(dāng)凹槽的兩個平端相對時,產(chǎn)生均勻電場用于細(xì)胞電穿孔。電極間距1mm,容積0.5ml。
技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電
兼容性:ECM830,ECM2001
扁平電極 由兩塊平行帶凹槽的長方形不銹鋼壓制于聚砜樹脂中構(gòu)成,既可用于細(xì)胞的電穿孔又可用于細(xì)胞電融合:當(dāng)凹槽電極的兩凹槽相對時,可產(chǎn)生不均勻電場用于細(xì)胞電融合;當(dāng)凹槽的兩個平端相對時,產(chǎn)生均勻電場用于細(xì)胞電穿孔。電極間距1mm,容積0.5ml。
技術(shù)規(guī)格:電壓范圍0-480V直流電,0-16V交流電
兼容性:ECM830,ECM2001